| Наименование | Разработка топологии тестовых структур и топологии МИС СВЧ, разработка файлов для электронной литографии и изготовления фотошаблонов |
|
|
|
|
| Происхождение трудовой функции | Оригинал |
|
Заимствовано из оригинала |
|
|
|
| Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта |
| Трудовые действия | Разработка топологии тестовых структур для характеризации параметров элементов монолитных интегральных схем (МИС) Разработка топологии МИС СВЧ, согласование их с технологами, внесение необходимых изменений Разработка и подготовка файлов для электронной литографии с предъявлением их для технического контроля, внесение необходимых изменений Разработка и подготовка файлов для изготовления фотошаблонов с предъявлением их для технического контроля, внесение необходимых изменений |
| Необходимые умения | Применять метод декомпозиции при анализе тестовых структур и МИС СВЧОценивать допуски на элементы при межоперационном контроле параметровПереходить от схемы принципиальной электрической к топологии МИС СВЧ, используя систему автоматизации проектирования (САПР)Планировать и оптимизировать контрольные операции в процессе прохождения пластин по технологическому маршрутуОсуществлять разработку топологии тестовых структур на пластине для проведения межоперационного контроля совместно с технологамиВыбирать методики измерения параметров тестовых структур при межоперационном контроле технологического процессаВыбирать оборудование для межоперационного контроляАнализировать статистическими методами результаты измерения параметров тестовых структур и делать заключение об их нахождении в пределах заданных допусков, приемлемых для достижения технических требований на МИСРассчитывать параметры МИС с учетом особенностей топологииРазрабатывать техническое задание на изменение технологииВзаимодействовать с технологическими подразделениями при передаче топологии в производствоПодготавливать файлы необходимых форматов для электронных шаблонов проекционной литографииРаботать на установке изготовления фотошаблонов |
| Необходимые знания | Основы технологии производства МИС СВЧ Основы статистического анализа Методы статистической обработки данных и теории чувствительности устройств к разбросам параметров компонент Теория и методы планирования эксперимента Методики межоперационного контроля Параметры гетероструктур и материалов, применяемых в технологии МИС СВЧ Теория допусков применительно к наноэлектронике СВЧ Методы разработки библиотек моделей пассивных и активных элементов МИС СВЧ Современные системы проектирования топологии СВЧ-устройств и МИС СВЧ Топологические библиотеки моделей пассивных и активных элементов МИС СВЧ Оборудование для измерения и контроля параметров тестовых структур и МИС СВЧ Методология системы менеджмента качества Основы технологии электронной литографии Методики и нормативная документация на подготовку конструкторской документации (КД) для электронной литографии Основы технологии изготовления фотошаблонов для проекционной литографии Методики и нормативная документация на подготовку КД для изготовления фотошаблонов |
| Другие характеристики | Деятельность, направленная на создание топологий МИС СВЧ, являющихся интеллектуальным продуктом, защищаемым авторами как «Топология ИС» |